核心设备
Solutions
-
实验室级钙钛矿平面涂布设备实验室级钙钛矿平面涂布设备
产品概述:采用垂直涂覆工艺，专为平面基材的湿法薄膜制备而优化。其设计紧凑轻量，在确保高标准涂覆效果的同时，集成完善回风系统，为操作人员提供健康防护。核心参数:涂覆基材覆盖范围：200mm×200mm~400mm×400mm
涂覆湿厚：≥3um
成膜干厚：优于3%（@500nm）
最大涂覆速度：100mm/s