核心设备
Solutions
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实验室级真空结晶设备实验室级真空结晶设备
产品概述:通过快速抽真空加速溶剂挥发，实现涂层的精密结晶与辅助成膜。设备模块化设计，可根据工艺需求，灵活配置上抽式、下抽式或内部加热式等多种方案。核心参数:适配基材尺寸：100mm×100mm~400mm×400mm（含硅片）
腔体尺寸：240mm×240mm×80mm ~ 450mm×450mm×120mm
真空速率：标配 10s 可达 10Pa；可选 30s 可达 1Pa、5s 可达 10Pa、3s 可达 150Pa 等